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關(guān)于原子層沉積系統(tǒng)您都了解嗎?

更新時間:2022-05-17      點(diǎn)擊次數(shù):1244
  原子層沉積系統(tǒng)的原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù),具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性,可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。
 
  原子層沉積系統(tǒng)的特點(diǎn):
 
  是一款獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD,帶Labview軟件,具備四級密碼控制的用戶授權(quán)保護(hù)功能。系統(tǒng)為全自動的安全互鎖設(shè)計(jì),并提供了強(qiáng)大的靈活性,可以用于沉積多種薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-3000系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體,帶有加熱腔壁和氣動升降頂蓋,非常方便腔體的訪問和清潔。該系統(tǒng)擁有一個載氣艙包含多達(dá)7個50ml的加熱汽缸,用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物,同時帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。
 
  原子層沉積系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含自動L/UL上下載(用于6”基片),ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD),臭氧發(fā)生器,等等。
 
  原子層沉積系統(tǒng)的應(yīng)用:
 
  Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etc
 
  Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
 
  Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS應(yīng)用.
 
  Nano laminates納米復(fù)合材料
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